开元体育网址半导体无机元素分析论坛现场各路高手演讲要点（附PPT下载）

　　开元体育网址半导体无机元素分析论坛现场各路高手演讲要点（附PPT下载）年前举办的半导体无机元素分析论坛，俨然是半导体制程产品和原材料质控和杂质分析各高手展示“十八般武艺”的秀场。

　　集成电路制造及其上游产品供应链中，杂质含量直接影响半导体产品的“良率”。据统计，约50%次品都和杂质有直接关系。来自化学试剂，高纯气体，硅材料等原材料的无机杂质控制，更是重中之重，甚至工作场所中气体中微量杂质的控制，也不能忽视。而往往集成电路生产厂商期望和制定的化学品的质控标准，其上游供货商也趋之若鹜。

　　这次以“无机杂质分析”为主题的论坛，分享观点的高手包括高纯化学品供应商QC经理，分析测试仪器供应商，半导体无机分析专家等。“良率”高手们分享了哪些观点，我们不妨学习一下。

　　Toshifumi Matsuzaki 表示，半导体制程的客户越来越严苛的要求，大大推动安捷伦一代代的产品的变革。

　　在《安捷伦ICP-MS半导体元素分析中的创新之路》的演讲中，Toshifumi Matsuzaki  回顾了半导体客户对于仪器稳定性和基体耐受性的核心需求，并表示：从惠普时期开始，安捷伦在ICP-MS产品及半导体无机元素分析领域实现了一次次技术提升，从冷等离子体技术到世界上第一台串接 ICP-MS等等，并始终处于这个领域创新的最前沿。

　　来自巴斯夫无机事业部品质管理经理的許卿恆（Jones Hsu）先生，做了名为《亚太地区半导体全新分析技术》的报告。

　　负责BASF在中国，地区、韩国、新加坡，马来西亚开元体育官方网站，德国等国家或地区全球实验室的技术开发的Jones Hsu认为，随着半导体制程线宽逐渐变小，对元素杂质检测能力也日益严格。无机杂质控制要求即将进入了PPQ（Part per quadrillion，10

　　）时代（如：铁元素杂质小于500 PPQ，即表示1克半导体材料中，铁元素杂质含量小于500х

　　为了满足半导体制程客户苛刻要求，巴斯夫作为世界上最大的化学品供应商之一，早已在其质控相关部门最先进杂质检测能力方面做了布局开元体育官方网站。Jones Hsu 所在的BASF Taiwan 是最早一批满足其先进制程客户要求的PPQ检测能力的化学品供应商实验室。

　　安捷伦日本的Katsuo Mizobuchi表示，半导体制程中，为了严格控制湿化学品中无机杂质，需要使用ICP-MS等分析仪器，对其中痕量及超痕量的元素进行检测，包括硫酸，双氧水等无机试剂，以及显影剂,光刻胶等有机试剂。半导体制程中的湿化学品，化学组成非常复杂，通常让痕量元素分析面临诸多困难。

　　Katsuo Mizobuchi专注半导体无机分析领域工作超过了30年。他讲述了半导体领域又一个无机杂质质控难题攻克的故事。将ICP-MS/MS两级质谱的强大质量筛选能力用于反应机理的研究，两级质谱的过滤和扫描功能开元体育官方网站，可以有效进行低含量氯元素的分析，同时也能清楚的了解干扰物的来源，并且消除干扰的整个过程。

　　Katsuo Mizobuchi也同时简要概述了半导体行业常见化学品的分析难点，以及ICP-MS/MS针对这些难点所展现的具体分析性能。

　　来自安捷伦日本的半导体无机杂质分析专家Yoshinori Shimamura表示，随着半导体制程线宽越来越窄，除了半导体原材料中可溶性污染物外，半导体制造商面临着更新的污染控制课题。一颗几百纳米，甚至几十纳米级别的不溶性颗粒，都有可能造成产品的“缺陷”，从而造成“次品”。而半导体制程中有很多颗粒污染可能的来源，比如不锈钢瓶，过滤装置，试剂瓶等等。

　　针对先进半导体制程客户在控制纳米颗粒污染的需求，Yoshinori Shimamura在《单纳米颗粒ICP-MS 分析的最新趋势》的报告中，介绍了安捷伦与半导体客户开发了利用ICP-MS分析高纯试剂中单纳米颗粒的最近技术进展。包括领先的15 nm级别污染颗粒检测技术：即在较难分析的有机溶剂中稳定检测15 nm的氧化铁纳米颗粒的成功案例，及利用多元素同步分析手段，观察纳米颗粒过滤的效果，和对污染源协助鉴别的能力。